Sapphire（蓝宝）在CeBIT上展示了新款式的显卡散热器即Vapor-X散热器，它是此前vapour chamber（均热板）技术散热器的改进型，拥有更大的风扇和重新设计的散热器，新的散热器将会在Radeon HD 4850/4870上采用。
均热板技术是Sapphire率先在其显卡散热器上采用的，最早见于其Atomic HD 3870，在Radeon HD 4870 Toxic也有使用。
均热板是mircoloops研发的散热技术，基本原理与热管是一样的，不同的是热管是线性的，而均热板是二维的，各个方向都可以传热。其内壁是具有微结构的真空腔体，当热由热源传导至蒸发区时，腔体里面的工质会在低真空度的环境中，便会开始产生液相气化的现象，此时工质吸收热能并且体积迅速膨胀，气相的工质会很快充满整个腔体，当气相工质接触到一个比较冷的区域时便会产生凝结进行放热，凝结后的液相工质会由毛细管再回到蒸发热源处，此运作将在腔体内周而复始进行。
