台积电2nm芯片制程良率超60%,将首次采用GAA技术

台积电2nm芯片制程良率超60%,将首次采用GAA技术

·PChome原创·作者:PChome编辑部

6月17日消息,在芯片代工领域,台积电一直占据着领先地位,根据《经济日报》最新报道,这家全球半导体巨头的2nm制程良率已突破60%,显著领先竞争对手三星40%的良品率。

6月17日消息,在芯片代工领域,台积电一直占据着领先地位,根据《经济日报》最新报道,这家全球半导体巨头的2nm制程良率已突破60%,显著领先竞争对手三星40%的良品率。

据韩国前锋报报导,南韩产业人士指出,台积电已开始收到2奈米制程订单,预料下半年将在新竹宝山和高雄厂生产。这是台积电首次采用GAA生产2nm芯片,能效预计将提高10%至15%,能耗将减少25%至30%,晶体密度也比目前的3nm制程提高15%。

在先进制程竞赛中,尽管三星与英特尔持续投入资源试图追赶,但台积电凭借雄厚的研发投入与稳健的技术演进节奏,始终保持领先。

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